제논 플래쉬를 이용해서 극히 짧은 시간 동안 시료를 조사하고, 표층만 순간 가열 합니다. 기존 타입의 열원과 비교시, 기재에 열 영향을 최소한으로 억제 할 수 있습니다. 반도체 제조에서 일어나는 표층의 가열처리, 금속 나노 잉크의 소결, DNA파괴에 의한 강력한 살균등 폭넓은 용도로 사용되고 있습니다.