キセノンフラッシュを用いて極短時間で試料を照射し、表層のみを瞬間加熱します。従来型の熱源にくらべ、基材への熱影響を最小限に抑えることができます。半導体製造における表層の熱処理、金属ナノインクの焼結、DNA破壊による強力な殺菌など幅広い用途に応用されています。

  • ESD-Z5815の外観

    パルス合成方式フラッシュ焼成装置

    プリンタブルエレクトロニクスの製造技術の有力な手段として、フラッシュによる瞬間加熱が注目されています。瞬間的な加熱によって、熱に弱い樹脂などの上の薄膜試料の焼成・改質を可能にするものです。

  • UX-A3091EMの外観

    金属ナノインクフラッシュ焼結装置

    プリンテッドエレクトロニクスの製造技術として、キセノンフラッシュによる金属ナノインクの瞬間加熱・焼結が注目されています。
    ウルトラキセノンUX-A3091EMは、さまざまな基材・インク素材・塗布厚にとって最適な照射条件を見出すための実験・評価用フラッシュ装置です。

  • UX-A15091ELの外観

    薄膜シリコン熱処理用・UV硬化樹脂用フラッシュ装置

    1/1000秒レベルの極めて短い時間で試料の極表層のみを照射することにより、基材や下層への熱影響を最小限に抑えることのできる瞬間加熱技術は、デバイスの薄型化・低コスト化の要求の中でますます重要になってきています。
    ウルトラキセノン UX-A15091ELは、25J/cm2の高エネルギー照射により、さまざまな素材の瞬間過熱にご使用になれる実験・評価用フラッシュ装置です。

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