パルス合成方式フラッシュ焼成装置

プリンタブルエレクトロニクスの製造技術の有力な手段として、フラッシュによる瞬間加熱が注目されています。瞬間的な加熱によって、熱に弱い樹脂などの上の薄膜試料の焼成・改質を可能にするものです。
しかし急激な加熱を行うため、試料にクラックや気泡などの欠陥が発生し、期待する結果が得られない場合もあります。
弊社では、独自開発の「パルス合成方式」により、予備加熱後の瞬間加熱や、緩やかな加熱、繰返し加熱など、さまざまな加熱パターンを実現しました。多様な試料に対して最適な焼成を可能にします。

お客様サンプルの試験照射を受け付けております。弊社はお客様の多様なニーズに対応致します。

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パルス合成方式

パルス合成方式とは、パルス状の放電電流を次々にフラッシュランプに印加し、合成した駆動電流でフラッシュランプを発光させる方式です。放電エネルギーと発光タイミングを調整することにより、発光パターンを自在に変化させることができます。

弊社は、山形大学大学院理工学研究科熊木大介准教授との共同研究に参加させていただいております。その成果として、熊木准教授は第75回応用物理学会秋季学術講演会(2014年9月17日(水)~9月20日(土)、北海道大学札幌キャンパス)において、弊社パルス合成方式フラッシュ焼結装置を用いた実験結果をもとに、銅ナノ粒子電極の低熱ダメージ焼成法について研究発表されました。

『パルス合成方式を用いた銅ナノ粒子電極の低熱ダメージ光焼成プロセスの検討』(PDF: 900KB)

詳細につきましては、下記ウェブサイトをご参照ください。
山形大学大学院理工学研究科 時任・熊木・福田研究室ウェブサイト

おもな応用例

  • 半導体の表層アニール(熱処理)
  • 金属(銀・銅)ナノインクの焼成・焼結
  • フラッシュ熱源としての試料加熱
  • 赤外線非破壊検査(探傷)のための加熱

さまざまな瞬間加熱パターン
(照射エネルギー約6J/cm2、照射距離50mmでの閃光波形)

おもな仕様

放電エネルギー 最大 4800 Joules/Flash
最大ピーク照射エネルギー 25 kW/cm2
最大照射範囲 70 mm × 40 mm
閃光時間 1発光あたり100 µs
最大16発合成することにより、1.6 msまで調整可能
光パルス数 最大16発光
放電エネルギー可変 放電エネルギーの50~100%で調整可能
発光タイミング可変 0~9999.9 ms
閃光波形 放電エネルギーと発光タイミング調整により、発光パターンを自在に可変

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