薄膜シリコン熱処理用・UV硬化樹脂用フラッシュ装置

ウルトラキセノン UX-A15091EL

1/1000秒レベルの極めて短い時間で試料の極表層のみを照射することにより、基材や下層への熱影響を最小限に抑えることのできる瞬間加熱技術は、デバイスの薄型化・低コスト化の要求の中でますます重要になってきています。
ウルトラキセノンUX-A15091ELは、25 J/cm2の高エネルギー照射により、さまざまな素材の瞬間過熱にご使用になれる実験・評価用フラッシュ装置です。材料によって異なる最適照射条件を見出すため、3段階の閃光時間切替と5段階の照射パワー切替により計15通りのフラッシュ条件が設定できます。さらに、サンプルから光源までの距離を5 mmから150 mmまで変えることによって、フラッシュ条件を変えずに照射エネルギーのみを増減させた実験が行うことができます。
フラッシュランプを9本用いることで、実験・評価に最適な、ムラの少ない大面積一括照射を可能にしました。

お客様サンプルの試験照射を受け付けております。弊社はお客様の多様なニーズに対応致します。

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UX-A15091ELのおもな特長

  • さまざまな試料に対応可能な最大25 J/cm2の高エネルギー照射
  • 加熱条件をきめ細かく設定可能:
    15通りのフラッシュ設定、5 mm~150 mmの照射距離調節によって、基材と試料にとって最適な加熱条件を見出す実験が行なえます。
  • 評価実験に適した均一な大面積照射:
    最大50 mm×50 mm(照射強度90%以内、照射距離100 mmにて)を均一に照射します。
  • コスト・パフォーマンスを追及しました。 定価 \16,000,000.-

サンプルを光源に最も近接させた場合、
25 J/cm2の照射エネルギーが得られます。

おもな仕様

使用ランプ キセノンフラッシュランプ X-186B1 9本使用
発光周期 60秒以上
放電エネルギー 3000, 6000, 9000, 12000, 15000 J/F (5段階切替)
照射エネルギー 最大25 J/cm2
ピークパワー 最大14 kW/cm2
照射時間 0.5 ~ 5 ms 15通りの設定が可能
照射距離 5 mm~150 mm (発光面からサンプルまで)
照射範囲 照射距離 20 mmにて、30 mm × 30 mm
照射距離 50 mmのとき、40 mm × 40 mm
照射距離 100 mmのとき、50 mm × 50 mm
発光トリガ 発光スイッチまたは外部信号(接点閉またはオープンコレクタ)
電源 AC100 V±10 V,50~60 Hz,1.5 kVA以下
寸法・質量 電源部: 1140(W)×1592(H)×810(D) mm・700 kg以下
ランプハウス: 400(W)× 530(H)×440(D) mm・ 30 kg以下

ウルトラキセノン 小型・低コストモデル

集光型ランプを採用した低コストの実験・評価用フラッシュ装置についても、ご相談をうけたまわります。

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