‘11国際画像機器展ご案内＜終了：ご来場ありがとうございました＞
会期
2011年12月7日（水）～9日（金）
会場
パシフィコ横浜
主催
日本画像・計測機器協議会
当社ブースNo
117
主な出展製品
フラッシュランプアニール装置
- 金属(銀・銅)ナノインクのフラッシュ焼結や半導体表面の熱処理など、多様な研究用途に利用できます。
- 光による１/1000秒以下の瞬間加熱を可能とします。
- ヒーター加熱に比べ表層のみの瞬間加熱が可能です。
マシンビジョン用大光量ストロボ光源MS-G8010 80W 1灯型
- 当社従来機(80Wストロボ)の光量を２倍にする一方、ちらつきを低減しました。
- 外形は従来機の半分に小型化。寿命は５億フラッシュ以上の長寿命を実現しました。
- 外部からの調光制御も可能です。
分析用光源
- 水質、血液検査などの測光用光源として使用できるよう、発光ごとの光量ゆらぎを安定化させました。
- キセノンフラッシュランプ、トリガーパック、電源とモジュールタイプの２機種を出展します。
ナノパルスライト（超短パルス光源装置）
- NP-1A/NPL-5 閃光時間 180nsec
高速度ビデオカメラ用ストロボフラッシュ
- ESD-VF10 閃光時間 50μsec～2msec 1灯型
