‘11国際画像機器展ご案内<終了:ご来場ありがとうございました>

会期

2011年12月7日(水)~9日(金)

会場

パシフィコ横浜

主催

日本画像・計測機器協議会

当社ブースNo

117

主な出展製品

フラッシュランプアニール装置

  • 金属(銀・銅)ナノインクのフラッシュ焼結や半導体表面の熱処理など、多様な研究用途に利用できます。
  • 光による1/1000秒以下の瞬間加熱を可能とします。
  • ヒーター加熱に比べ表層のみの瞬間加熱が可能です。

マシンビジョン用大光量ストロボ光源MS-G8010 80W 1灯型

  • 当社従来機(80Wストロボ)の光量を2倍にする一方、ちらつきを低減しました。
  • 外形は従来機の半分に小型化。寿命は5億フラッシュ以上の長寿命を実現しました。
  • 外部からの調光制御も可能です。

分析用光源

  • 水質、血液検査などの測光用光源として使用できるよう、発光ごとの光量ゆらぎを安定化させました。
  • キセノンフラッシュランプ、トリガーパック、電源とモジュールタイプの2機種を出展します。

ナノパルスライト(超短パルス光源装置)

  • NP-1A/NPL-5 閃光時間 180nsec

高速度ビデオカメラ用ストロボフラッシュ

  • ESD-VF10 閃光時間 50μsec~2msec 1灯型

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